昨天Hi Investment & Securities研究员朴相佑在一份报告中表示:「三星电子近期成功地提高4奈米工艺的良率,并提高了高通和辉达再次合作的可能性。」

IT之家报导,之前三星电子代工厂曾经历过产品上市延迟以及 10奈米以下工艺良率提升缓慢的情况,导致主要客户纷纷转向台积电。结果,去年台积电的资本支出和产能分别是三星电子代工业务的 3.4 倍和 3.3 倍。

在 7奈米以下的先进工艺方面,台积电的市占率达到90%,进一步拉大2家公司之间的差距。

随著三星电子今年 4奈米工艺良率超过 75%、3奈米工艺良率超过 60%,再加上台积电涨价的影响,韩媒指出,业界认为三星有望再次夺回被台积电抢走的客户,而且之前高通和辉达等多位客户也曾表示,他们有必要将其外包生产进行多元化。

根据三星代工在 SFF 2023 上公布的最新工艺技术路线图,该公司计划在 2025 年推出 2 奈米级的 SF2 工艺,2027 年推出 1.4 奈米级的 SF1.4 工艺。与此同时,该公司还公布 SF2 工艺的一些特性。

IT之家注意到,在扩大技术供应的同时,三星仍然致力于扩大其在韩国平泽和美国德州泰勒市的产能。

三星计划于 2023 年下半年在其平泽 P3 线开始量产晶片,而泰勒市新建厂房预计将于今年年底完工,并于 2024 年下半年开始营运。三星目前的计划是到 2027 年将其无尘室容量比 2021 年增加 7.3 倍。

壹苹新闻网-投诉爆料

爆料网址:reporting.nextapple.com

爆料信箱:news@nextapple.com

★加入《壹苹》Line,和我们做好友!

★下载《壹苹新闻网》APP

★Facebook 按赞追踪

壹苹娱乐粉专壹苹新闻网粉专


點擊閱讀下一則新聞 點擊閱讀下一則新聞
台股创新高ETF规模突破2.25兆 这档千亿高股息绩效逾2成最佳