龙华科大表示，林宗新热衷发明，曾于2017年、2018年及2019年的克罗埃西亚INOVA国际发明展中，分别以「作为缓冲层之铜镀层及其制作方法」、「具有良好导热性与照度的铜镀层及其制备方法」以及「抗菌铜镀膜及其制备方法」等三项发明荣获金牌，亦曾于2017、2018及2023年三度获得马来西亚ITEX国际发明展金牌，他也因此在2022年获颁第18届国际杰出发明家学术国光奖章。
龙华科大表示，本次克罗埃西亚INOVA国际发明展由林宗新领军，半导体系教授李九龙、龙华学生杨尚桦、李传婷，以及新庄高中学生林佳伶，组成参赛团队。
林宗新指出，「铜铑镀层的制备方法」这项技术不仅在半导体工业中具有重要应用，同时对于能源、环境和通讯等领域也有潜在的影响。这项发明可运用在铜导线、IC晶圆与半导体封装上缓冲层、LED元件散热层与抗菌医疗器材上，应用相当广泛。
校方进一步说明，相较于国内外使用溅镀铜合金薄膜阻障层制程，林宗新的研究为无阻障金属化制程，具备低电阻，低漏电流，可抑制介金属化合物形成等，且可简化制程、降低制造成本特点，期待日后与厂商合作，进入实际制程应用。
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