据《朝鲜日报》报导，预期Hyper-NA EUV曝光机售价可能高达7.24亿美元（约为230亿元新台币），比去年底陆续推出High-NA EUV曝光机价格再度翻倍，这使得台积电等先进制程晶圆代工厂望之却步，甚至可能让这些公司在制定中长期目标出现变数，尤其是如今进入到埃米（A）时代，竞争更为激烈，因为这些设备价格实在过于高昂。
一名半导体业界人士指出，过去台积电相较于三星，较晚采用EUV曝光机，并透过自身所累积的经验与技术来打造先进晶片，进而降低采购新设备的成本。
知悉三星业务的人士表示，现在采用high-NA EUV曝光机，对于考量要用以1奈米制程以下的中长期计划，可能是个糟糕的决定。有鉴于Hyper-NA EUV曝光机的推出，可能会考虑直接跳过high-NA EUV曝光机，直接转向Hyper-NA EUV曝光机，但前提是该设备已经提供某种程度的可靠性。
英特尔在今年4月公布晶圆代工服务（Intel Foundry Services，IFS）事业群制造部门营运情况，今年第一季亏损25亿美元，2023年亏损更是高达70亿美元，报导指出，英特尔为首家接收到high-NA EUV曝光机的厂商，但如今面对巨大亏损，主要就是大量采购设备所致。
ASML指出，high-NA EUV曝光机将让英特尔可以生产2奈米以下，包括Intel 18A、Intel 14A系列制程，甚至是10埃米至7埃米制程晶片，Hyper-NA EUV曝光机成为必要设备，许多公司都会采用，因为这可以降低多重图形（Multiple patterning）的曝光方式所产生的风险。
點擊閱讀下一則新聞
营收与获利双成长企业高达千家 CRIF：内需胜出口、AI供应链出头
