2大对手卡关！传台积电首套High-NA EUV曝光机提早引进　还低于市价

综合媒体消息指出，台积电首套High-NA EUV曝光机买价远低于定价，根据先前ASML对外声称的价格为3.8 亿美元（约为新台币120亿元），足足比前一代EUV曝光机价格1.8亿美元高出许多。ASML High NA EUV产品管理副总裁Greet Storms则是在上周SEMICON Taiwan 2024分享最新技术，指出透过采用最新光学元件，将数值孔径从0.33提升至0.55，以提供更高成像解析，临界尺寸将达到8nm，让晶片制造商可以在同样单位面积的晶片上，实现较现今设备高出2.9倍电晶体密度，大幅降低成像缺陷。

此外，Greet Storms也在回应媒体提问，被问及有客户说设备太贵了，她回称，相信对方会议价，而且很多EUV客户也都在买他们的产品。

虽然张晓强再先前声称，A16制程仍可以不使用High-NA EUV曝光机，但是台积电董事长魏哲家今年5月没有出席在新竹的技术论坛，而是跑到欧洲拜访荷兰 ASML 总部，外界认为台积电就算技术优秀，但为了与对手保持竞争，仍会积极采购High-NA EUV曝光机，市场推测，台积电将在今年底收到首套High NA EUV曝光机，但是最新消息指出，台积电将提前在9月底收到设备，并且以远低于市价的折扣取得。

市场推测，可能是英特尔陷入财务难题，抢先取得首套High NA EUV曝光机的优势全无，三星目前在GAA制程良率仍有很大问题，遑论率先采用High-NA EUV曝光机，台积电目前坐拥市场、技术优势，ASML虽然目前营收仍有大半可以靠出口成熟制程设备到中国维持，但是美国晶片禁令只会愈缩愈紧，相比之下，台积电是最有可能大手笔采购设备的厂商。对此，ASML并没有回应评论。