High-NA EUV成埃米世代关键 矽光子从服务走向设备销售
先进制程方面，柳纪纶表示，High-NA EUV已成埃米世代关键，泛铨在前一波开发阶段即参与客户High-NA EUV用MOR（金属氧化光阻）材料分析，并于去年2月美国SPIE会议展示高解析TEM成果。公司也揭露APT（原子探针）结合TEM、SIMS的原子级材料分析，透过次奈米级3D重建辨识材料结构与缺陷。泛铨并指出，SAC-TEM Center已通过客户稽核，最快12月底至明年1月起逐步贡献营收，扩建将依需求分阶段推进。
在矽光子布局上，柳纪纶表示，泛铨与主要晶圆厂客户合作逾5年，并与美国大型AI公司合作近2年持续深化。公司提供矽光子精密分析与光损断点定位服务，涵盖晶圆级、共封装光学（CPO）到光纤介面等应用，核心技术已取得台湾、日本发明专利，欧美、韩国与中国专利续布局。
因应导入与量产节奏，泛铨规划推出销售可供量产端（PD）与品质验证（QA）使用的矽光子测试设备HG（Helmet Gecko），意思是夜行壁虎，是夜行动物里面视线最好的。柳纪纶说明，HG设备是采一对一客制，初估定价约千万元，设备销售尚未纳入明年财测，预期2026年后逐步放量。
从量产验证走向研发前端 泛铨全球布局锁定第一阶段商机
柳纪纶表示，公司近年积极扩大全球布局，背后有其长期策略考量。泛铨在上市前仅有4个厂区，包括总部、本部、南科与南京据点，上市后两年内已扩增至12座，其中南京据点由原本承租一层扩大为整栋购入，台湾与海外据点同步扩充。柳纪纶坦言，过去两年因大幅投资布局，营运绩效承压，但「没有提前布局，就没有未来」，相关投入是为长期发展奠基。
柳纪纶指出，泛铨依主要客户需求建立「专区」服务模式，核心锁定台湾晶圆大厂与美国大型AI公司。其中，营运总部二楼全层即为矽光子专区，陪伴晶圆厂研发超过5年，也因深度耕耘矽光子技术，成功深化与美国AI客户的合作关系。
在材料分析方面，泛铨自20年前起家，目前技术已推进至2奈米世代，本部与竹北二厂合计逾千坪场地专责材料分析，并因应奈米世代需求，另行为球差校正显微镜（CST-TEM）建置专用厂房，显示公司已深度参与先进制程核心研发。
柳纪纶强调，过去产业多聚焦制程「第二阶段」，亦即设备商将原型机移入晶圆厂协同调制程，但实际上更关键的是「第一阶段」，也就是设备与材料在原型开发初期的材料分析与故障分析经验。他指出，2奈米研发历时两到三年、约2000道工序，期间每日样品需即时分析回馈，而能真正看到制程结构与成分的，仅有泛铨与晶圆厂专区人员，资料全程专线传输并即时删除。
正因第一阶段研发需求日益重要，泛铨选择进驻美国矽谷与日本东京湾川崎，锁定高门槛、长期性的研发型材料分析商机，而非仅布局量产厂区的一次性需求。
矽光子设备已组3台、可模组化 资本支出明年起维持平均5亿元
在法人提问环节，泛铨说明矽光子测试设备已实际组装三台（两台全自动、一台手动），用于研发与元件耐受度测试，并可依客户需求模组化组合，同一平台对应研发、初步量测与资料搜集等不同阶段。
泛铨强调，公司优势来自长期与客户合作累积的光损侦测与缺陷定位经验，可比对正常与异常样态，快速找出PIC失效点并形成专利布局。公司坦言，不进入大规模量产测试市场，设备销售目的是让客户完成初步Wafer Mapping与资料收集，待需要更精细定位与材料分析再回到泛铨承作，以优化人力与效率；明年设备数可望扩至5至6台，并规划竹北第三厂作为长期弹性空间。
柳纪纶也坦言，过去一段时间是成本投入高峰，EPS表现也的确不好，但是明年将迎来营运动能，当业绩往上的同时，利润也会浮现。至于资本支出，泛铨指出，由于过去两年已经大幅度扩产，明年起将维持平均5亿元的资本支出规模。
點擊閱讀下一則新聞
