在荷兰计划限制半导体设备龙头艾司摩尔（ASML）和其他企业某些设备出口中国之际，美国预料将更进一步，利用其长远影响力从特定中国晶圆厂扣住更多荷兰设备。
美国去年10月以国安为由，对科林研发（Lam Research）和应用材料（Applied Materials）等美国企业出口晶片制造工具实施出口限制，并游说其他主要供应商的国家采取类似行动。
中国驻美大使馆发言人刘鹏宇对美国此举予以谴责，称美方「蓄意封杀、束缚中国企业，强行搬迁产业，推动脱勾」，还称中方会「密切关注事态发展、坚定维护自身利益」。
拥有晶片设备制造商尼康公司（Nikon Corp）、东京威力科创公司（Tokyo Electron Ltd.）的日本，通过限制23种半导体制造设备出口的规定，并将在7月23日生效。
荷兰政府计划30日宣布新规定，要求艾司摩尔第2大产品深紫外光曝光机（Deep Ultraviolet lithography, DUV）设备出口前需先提出许可申请。在此之前，艾司摩尔最精密的极紫外光曝光机（Extreme ultraviolet, EUV）已经受限，禁止出口到中国。
艾司摩尔曾于3月表示，预料荷兰这项规定，将影响TWINSCAN NXT:2000i和其他更精密的设备。
不过艾司摩尔较旧型的DUV设备，如TWINSCAN NXT:1980Di等，也可能遭美国限制出口给中国6家企业。知情人士表示，预料在新的规定中，外国设备就算只用了少量美国零件，也不得卖给法令中点名的6家中国企业。
消息人士表示，荷兰新的规定不会立即生效。一名人士则表示，预料9月才会生效。
至于美国拟定的新规定，消息人士透露，可能会在7月下旬公布，将要求设备出口给6家中国企业时，必须先获得许可，其中包括中国最大晶片制造商中芯国际（SMIC）经营的晶圆厂。但该人士说，许可证可能会遭驳回。
美国新的规定预料将适用于全球领先的晶片设备制造商、荷兰最大企业艾司摩尔，因为其系统包含美国的零件。（中央社）
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