辉达神助攻！台积电、新思携手　挑战2奈米以下晶片制造

辉达执行长黄仁勋指出，运算式微影(computational lithography)是晶片制造的基石，辉达与台积电、Synopsys采用cuLitho应用在加速计算和生成式AI，为晶片面积微缩提供了新的道路。运算式微影是工作负载最高的半导体制造过程，每年在CPU上消耗数十亿小时。

辉达说明，光是晶片光罩组就需要需要3000万小时或更长时间的CPU计算时间，因此需要在半导体工厂内建造大型资料中心。透过加速计算，350个NVIDIA H100系统现在可以取代40,000个CPU系统，加快生产时间，同时降低成本、空间和电力。

台积电总裁魏哲家表示，台积电与辉达合作，将GPU加速计算整合到台积电的工作流程，让效能大幅提升，将协助晶圆厂提高产量、缩短周期时间并降低电力需求。魏哲家指出，台积电正在利用「cuLitho」投入到台积电的生产工作，打算将运算式微影纳入半导体生产流程套件的关键组成。

 

自去年推出以来，「cuLitho」让台积电为创新模式技术开辟了新的机会。 在测试共享工作流程时，2家公司共同实现了曲线流程的45倍加速和更传统的曼哈顿式流程的近60倍的改进。 这这两种类型的流程不同，曲线流程的光罩由曲线表示，曼哈顿光照图形则是被限制为水平或垂直。

 

新思科技总裁暨执行长 Sassine Ghazi 表示，新思与台积电和辉达的合作对于实现埃米等级的微缩至关重要，因为开创了先进技术，透过加速运算大幅缩短周期时间。